천연 가스 정화 시스템 분자체 탈황

우리 사회가 발전함에 따라 청정에너지를 옹호하게 되면서 청정에너지로서의 천연가스에 대한 수요도 늘어나고 있습니다. 그러나 천연가스를 개발하는 과정에서 많은 가스정에는 황화수소가 포함되어 있는 경우가 많습니다. 이는 장비와 파이프라인을 부식시키고 환경을 오염시키며 인간의 건강을 위협할 수 있습니다. 과학기술의 발전에 따라 천연가스 탈황 기술의 폭넓은 사용으로 이러한 문제가 해결되었으나, 동시에 천연가스 정화 및 처리 비용도 그에 따라 증가했습니다.

분자체 탈황(탈황이라고도 함) 스키드는 분자체 스위트 스키드라고도 하며 천연 가스 정화 또는 천연 가스 컨디셔닝 프로젝트의 핵심 장치입니다.

분자체는 골격 구조와 균일한 미세 다공성 구조를 가진 알칼리 금속 알루미노실리케이트 결정입니다. 우수한 성능과 높은 흡착능력, 흡착 선택성을 지닌 흡착제입니다. 첫째, 분자체 구조에는 기공 크기가 균일하고 구멍이 깔끔하게 배열된 채널이 많아 표면적이 매우 클 뿐만 아니라 구멍보다 큰 분자의 진입을 제한합니다. 둘째, 분자체 표면은 이온 격자의 특성으로 인해 극성이 높기 때문에 불포화 분자, 극성 분자, 분극성 분자에 대한 흡착 능력이 높습니다. 물과 황화수소는 극성 분자이며 분자 직경은 분자체의 기공 직경보다 작습니다. 미량의 물을 함유한 원료 가스가 상온에서 분자체 베드를 통과하면 미량의 물과 황화수소가 흡수되어 공급 가스 중 물과 황화수소의 함량이 감소하고 탈수 및 탈황의 목적이 실현됩니다. 분자체의 흡착 과정에는 모세관 응축과 반 데르 발스 힘에 의한 물리적 흡착이 포함됩니다. 켈빈 방정식에 따르면 모세관 응축은 온도가 증가함에 따라 감소하는 반면, 물리적 흡착은 발열 과정이며 흡착은 온도가 증가함에 따라 감소합니다. 압력이 증가하면 증가합니다. 따라서 분자체의 흡착 공정은 일반적으로 저온, 고압에서 수행되는 반면, 분석 재생은 고온, 감압에서 수행됩니다. 고온, 청정 및 저압 재생 가스의 작용으로 분자체 흡착제는 흡착제의 흡착량이 매우 낮은 수준에 도달할 때까지 미세 기공의 흡착물을 재생 가스 흐름으로 방출합니다. 또한 공급 가스에서 물과 황화수소를 흡착하는 능력이 있어 체의 재생 및 재활용 과정을 실현합니다.

탈황 장치의 주요 구성 목록

분자체 탈황 장치의 테이블 구성 목록

주요 장비는 다음과 같습니다.

참고: 1. 주요 공정 장비 목록은 PID 체계를 따릅니다.

2. 시운전 및 2년 작동을 위한 예비 부품 목록은 별도 문서로 제공됩니다.

3. 장치의 외부 인터페이스 표준은 고스트의 맞대기 플랜지이며 저장 탱크와 장비의 경계에 개스킷과 패스너가 제공됩니다.

4. 이 부속서에 기술된 장비의 기술 데이터는 최종 설계의 적용을 받습니다.