2.3 공급 가스 건조 장치
1) 프로세스 설명
탈산성화된 천연가스는공급 가스 건조 장치 . 이 장치는 온도 변동 흡착 기술을 채택하여 가스를 분리하고 정화합니다. 온도 변동 흡착 기술은 흡착제(다공성 고형물) 내부 표면에 기체 분자가 물리적으로 흡착되는 것을 기반으로 하며, 흡착제에 의한 기체의 흡착을 이용합니다. 흡착온도, 흡착압력에 따라 용량이 달라지는 특성. 흡착제가 서로 다른 가스성분을 선택적으로 흡착하는 조건에서, 혼합가스 중의 일부 성분은 저온, 고압에서 흡착되고, 흡착되지 않은 성분은 흡착층을 통해 유출되며, 흡착된 성분은 고온, 저압에서 탈착된다. 다음 저온 및 고압 흡착을 위해 다중 흡착탑을 사용하여 연속적인 가스 분리 목적을 달성할 수 있습니다.
공급 가스 건조 및 중질 탄화수소 제거 장치에는 전환 작업을 위한 3개의 흡착 장치(흡착용 1개, 냉간 송풍용 1개, 가열 재생용 1개)가 장착되어 있습니다.
탈산소화 장치의 공급 가스는 흡착기 상단으로 들어가고, 분자체 흡착에 의해 수분이 제거된 후 흡착기 바닥에서 나옵니다. 탈수 후 천연가스는 수은 제거탑으로 들어갑니다.
공급 가스 건조 장치는 냉간 송풍 및 재생을 위한 매체로 소량의 공급 가스를 사용합니다. 재생가스는 흡착탑을 떠난 후 냉각 및 분리되어 흡착상태로 건조탑 입구로 되돌아갑니다.
재생가스는 먼저 냉각된 흡착기를 위에서 아래로 통과한 후, 재생가스가 재생히터에 의해 재생온도 180~260℃로 가열된 후, 흡착기의 바닥에서 유입되어 흡착기에 의해 흡착된 물을 흡수하게 됩니다. 흡착제. 재생가스는 건조기 상부에서 나오며, 재생냉각기에서 냉각된 후 재생가스 분리기로 들어가고, 그 안의 액체는 분리되어 흡착기 전단으로 되돌아갑니다.
이 장치를 통과한 후 건조 천연가스의 수분은 1ppm 이하입니다.
주요설비로는 흡착탑, 재생가열기, 재생가스냉각기, 재생가스분리기 등이 있습니다.
2) 설계변수
공급 가스 처리 능력:10×104Nm삼/디
작동 압력: 5.2 Mpa.G
흡착온도 : 40℃
재생 온도: 180 ℃ ~260 ℃
재생 열원: 열전달 오일 가열
H의 내용2정화된 가스의 O는 ≤ 1ppm입니다.
2.4 공급 가스 수은 제거 장치
1) 프로세스 설명
중질 탄화수소를 제거한 후 천연 가스는 먼저 황 함침 활성탄 흡착기로 들어갑니다. 수은은 황이 함침된 활성탄의 황과 반응하여 황화수은을 생성하며, 황화수은은 활성탄에 흡착되어 수은 제거 목적을 달성합니다. 수은 제거제에서 나오는 천연 가스의 수은 함량은 0.01μg/Nm3 미만입니다.
수은 제거제가 설치되어 있으며, 검출 조건에 따라 황이 함침된 활성탄이 교체됩니다.
수은이 제거된 천연가스는 필터 장치로 들어갑니다.
2) 설계변수
공급 가스 처리 능력:10×104Nm삼/디
작동 압력: 5.0Mpa.G
흡착온도： 40 ℃
정화된 가스의 Hg 함량은 ≤ 0.01μg/Nm입니다.삼
3) 적응 범위: 50%~110%.
2.5 공급 가스 여과 장치
1) 프로세스 설명
필터 장치에는 저항 데이터에 따라 전환하여 사용할 수 있는 필터가 장착되어 분자체 및 활성탄 먼지를 필터링하는 목적을 달성합니다.
먼지 제거 후 공급 가스의 먼지 입자는 10μm 미만입니다.
주요 장비는 먼지 필터입니다.
공급 가스 처리 능력:10×104Nm삼/디
2) 설계변수
작동 압력: 5Mpa.G
정화된 가스의 먼지 함량은 ≤ 5μm입니다.
문의하기:
쓰촨 룽텡 자동화 설비 유한 회사
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게시 시간: 2023년 7월 23일
