우리는 가스 스트림용 재생 무정형 흡착제의 H2O 제거에 대한 짧은 리드 타임을 위해 매년 시장에 진전을 강조하고 새로운 솔루션을 소개합니다. 추가 문의 사항이 있거나 당사 솔루션에 대해 질문이 있는 경우 일반적으로 기다리지 말고 문의하시기 바랍니다. 우리를.
우리는 발전을 강조하고 매년 시장에 새로운 솔루션을 출시합니다.중국 산화철 탈황기 및 건식 탈황기 , 우리 직원들은 "무결성 기반 및 상호 작용 개발"정신과 "우수한 서비스를 갖춘 일류 품질"이라는 신조를 고수하고 있습니다. 모든 고객의 요구에 따라 고객이 성공적으로 목표를 달성할 수 있도록 맞춤형 및 개인화 서비스를 제공합니다. 국내외 고객의 전화 및 문의를 환영합니다!
원칙
분자체 탈황(탈황) 스키드는 분자체 스위트 스키드라고도 하며 천연 가스 정화 또는 천연 가스 컨디셔닝의 핵심 장치입니다. 분자체는 골격 구조와 균일한 미세 다공성 구조를 가진 알칼리 금속 알루미노실리케이트 결정입니다. 미량의 물을 함유한 공급 가스가 실온에서 분자체 베드를 통과할 때 미량의 물과 메르캅탄이 흡수되어 공급 가스의 물과 메르캅탄 함량을 감소시켜 탈수 및 탈황 목적을 실현합니다. 분자체의 흡착 과정에는 모세관 응축과 반 데르 발스 힘에 의한 물리적 흡착이 포함됩니다. 켈빈 방정식으로부터 모세관 응축은 온도가 증가함에 따라 약해지는 반면 물리적 흡착은 발열 과정이며 흡착은 온도가 증가함에 따라 약해지고 압력이 증가함에 따라 증가한다는 것을 알 수 있습니다. 따라서 분자체의 흡착 공정은 일반적으로 저온 및 고압에서 수행되는 반면 탈착 재생은 고온 및 저압에서 수행됩니다. 고온, 청정 및 저압 재생 가스의 작용으로 분자체 흡착제는 흡착제의 흡착량이 매우 낮은 수준에 도달할 때까지 미세 기공의 흡착물을 재생 가스 흐름으로 방출하고 물을 흡수하는 능력을 갖습니다. 그리고 공급 가스에서 메르캅탄을 추출하여 분자체의 재생 및 재활용 과정을 실현합니다.
기술적 과정
천연가스 분자체 탈황(탈황) 스키드의 공정 흐름이 다이어그램에 표시되어 있습니다. 이 장치는 3개의 타워 공정, 1개의 타워 흡착, 1개의 타워 재생 및 1개의 타워 냉각을 채택합니다. 공급 가스 필터 분리기를 통해 동반된 탄화수소 액체를 제거한 후 공급 가스는 분자체 탈황탑으로 들어갑니다. 공급 가스의 물과 메르캅탄은 분자체에 의해 흡착되어 탈수 및 메르캅탄 흡착 공정을 실현합니다. 탈수 및 메르캅탄 제거 과정에서 정제된 가스는 제품가스 먼지 필터로 들어가 분자체 먼지를 제거한 후 제품가스로 수출됩니다.
분자체는 일정량의 물과 메르캅탄을 흡착한 후 재생되어야 합니다. 제품가스 분진을 필터링한 후 제품가스의 일부를 재생가스로 추출합니다. 가열로에 의해 가스를 300℃까지 가열한 후, 흡착공정이 완료된 분자체 탈황탑을 거쳐 탑을 아래에서 위로 서서히 가열하여 분자체에 흡착된 물과 메르캅탄을 분리되어 풍부한 재생 가스가 되어 재생 과정을 완료합니다.
디자인 매개변수
최대 처리 용량 2200 St.m3/h
시스템 작동압력 3.5~5.0MPa.g
시스템 설계압력 6.3MPa.g
흡착온도 44.9℃
우리는 가스 스트림용 재생 무정형 흡착제의 H2O 제거에 대한 짧은 리드 타임을 위해 매년 시장에 진전을 강조하고 새로운 솔루션을 소개합니다. 추가 문의 사항이 있거나 당사 솔루션에 대해 질문이 있는 경우 일반적으로 기다리지 말고 문의하시기 바랍니다. 우리를.
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